Preciznost obrade komponenti
Visokokvalitetni filteri zahtijevaju izuzetno visoku preciznost u obradi komponenti. Čak i mala odstupanja u veličini, obliku ili položaju mogu značajno utjecati na performanse filtera i Q-faktor. Na primjer, kod šupljinskih filtera, dimenzije i hrapavost površine šupljine izravno utječu na Q-faktor. Da bi se postigao visoki Q-faktor, komponente moraju biti obrađene s visokom preciznošću, što često zahtijeva napredne proizvodne tehnologije poput precizne CNC obrade ili laserskog rezanja. Aditivne proizvodne tehnologije poput selektivnog laserskog taljenja također se koriste za poboljšanje preciznosti i ponovljivosti komponenti.

Odabir materijala i kontrola kvalitete
Odabir materijala za visokokvalitetne filtere je ključan. Potrebni su materijali s niskim gubicima i visokom stabilnošću kako bi se smanjili gubici energije i osigurale stabilne performanse. Uobičajeni materijali uključuju metale visoke čistoće (npr. bakar, aluminij) i dielektrike s niskim gubicima (npr. aluminijeva keramika). Međutim, ovi materijali su često skupi i zahtjevni za obradu. Osim toga, tijekom odabira i obrade materijala potrebna je stroga kontrola kvalitete kako bi se osigurala dosljednost svojstava materijala. Bilo kakve nečistoće ili nedostaci u materijalima mogu dovesti do gubitka energije i smanjenog Q-faktora.

Preciznost montaže i podešavanja
Proces sastavljanja zavisokokvalitetni filterimora biti vrlo precizan. Komponente moraju biti precizno postavljene i sastavljene kako bi se izbjeglo neusklađivanje ili praznine, što bi moglo smanjiti performanse filtra. Za podesive visoko-Q filtre, integracija mehanizama za podešavanje sa šupljinom filtra predstavlja dodatne izazove. Na primjer, u dielektričnim rezonatorskim filterima s MEMS mehanizmima za podešavanje, veličina MEMS aktuatora je mnogo manja od rezonatora. Ako se rezonator i MEMS aktuatori izrađuju odvojeno, proces sastavljanja postaje složen i skup, a mala neusklađenost može utjecati na performanse podešavanja filtra.

Postizanje konstantne propusnosti i prilagodljivosti
Dizajniranje podesivog filtera visokog Q faktora s konstantnom propusnošću je izazovno. Kako bi se održala konstantna propusnost tijekom podešavanja, vanjski opterećeni Qe mora se mijenjati izravno sa središnjom frekvencijom, dok se međurezonatorske sprege moraju mijenjati obrnuto proporcionalno središnjoj frekvenciji. Većina podesivih filtera opisanih u literaturi pokazuje degradaciju performansi i varijacije propusnosti. Tehnike poput uravnoteženih električnih i magnetskih sprega koriste se za dizajn podesivih filtera s konstantnom propusnošću, ali postizanje toga u praksi ostaje teško. Na primjer, za podesivi TE113 filtar s dvostrukom šupljinom objavljeno je da postiže visoki Q-faktor od 3000 u svom rasponu podešavanja, ali njegova varijacija propusnosti i dalje je dosegla ±3,1% unutar malog raspona podešavanja.

Proizvodni nedostaci i proizvodnja velikih razmjera
Nesavršenosti u izradi poput oblika, veličine i odstupanja položaja mogu unijeti dodatni moment u mod, što dovodi do spajanja modova na različitim točkama u k-prostoru i stvaranja dodatnih radijacijskih kanala, čime se smanjuje Q-faktor. Za nanofotonske uređaje u slobodnom prostoru, veće područje izrade i više kanala s gubicima povezanih s nanostrukturnim nizovima otežavaju postizanje visokih Q-faktora. Dok su eksperimentalna postignuća pokazala Q-faktore i do 10⁹ u mikrorezonatorima na čipu, izrada filtera visokog Q-faktora u velikim razmjerima često je skupa i dugotrajna. Tehnike poput fotolitografije u sivim tonovima koriste se za izradu nizova filtera u mjerilu pločice, ali postizanje visokih Q-faktora u masovnoj proizvodnji ostaje izazov.

Kompromis između performansi i troškova
Visokokvalitetni filteri obično zahtijevaju složene dizajne i visokoprecizne proizvodne procese kako bi se postigle vrhunske performanse, što značajno povećava troškove proizvodnje. U praktičnim primjenama potrebno je uravnotežiti performanse i troškove. Na primjer, tehnologija mikroobrade silicija omogućuje jeftinu serijsku izradu podesivih rezonatora i filtera na nižim frekvencijskim pojasevima. Međutim, postizanje visokih Q-faktora u višim frekvencijskim pojasevima ostaje neistraženo. Kombiniranje silicijske RF MEMS tehnologije podešavanja s isplativim tehnikama injekcijskog prešanja nudi potencijalno rješenje za skalabilnu, jeftinu proizvodnju visokokvalitetnih filtera uz održavanje visokih performansi.